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使用專利光延遲調(diào)制器(PEM)技術，該系統(tǒng)提供最高規(guī)格雙折射靈敏度。此外，PEM提供高速操作，以50/60KHz的速度進行調(diào)制。高靈敏度與高重復精度的特性，很容易實現(xiàn)亞納米級的雙折射延遲量測量。
便捷快速的操作而設計
儀器自帶一個140x190mm（可定制其他尺寸）的光學樣品臺，可以通過手動或自動方式設定掃描區(qū)域。將樣本放置到樣品臺后，可以通過軟件的圖形界面進行直觀的設置與測量。用戶界面軟件能夠顯示延遲值和快軸角度，并且能在掃描模式下提供二維的延遲分布信息。
應用
質量控制
低延遲的雙折射測量：
光滑玻璃
其他透明光學元件
激光晶體
光刻組件的質量驗證：
光掩膜
熔石英光學元件
氟化鈣鏡片毛坯和窗口
主要特點
在低延遲雙折射測量中可同時測量雙折射延遲幅度和角度
精確度可重復性
高速測量（60pps）
無需移動被測樣品
可自由設定測量區(qū)間范圍
主要參數(shù)
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調(diào)制頻率 |
50KHz/60KHz |
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波長 |
632.8nm（可定制） |
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信號處理方案 |
信號捕捉卡 |
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測量單位 |
延遲量: nm 軸角度：° |
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掃描范圍 |
140*190mm （可定制其他范圍） |
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可測量的延遲范圍 |
0.005nm-158nm |
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延遲精度/重復性 |
0.001nm/±0.015nm |
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角度精度/重復性 |
0.01°/±0.07° |
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測量速度 |
60次/秒 |